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如何提高光刻胶的生产效率和质量?光刻胶控温防爆模温机

返回列表 来源: 发布日期: 2023.10.31/10:49

光刻胶是一种高分子化合物,主要用于微电子制造中的光刻工艺。光刻胶的应用广泛,可以用来制造芯片、光学器件、MEMS(微机电系统) 等微型器件。

光刻胶的生产过程需要控制温度,以保证其分子结构和性能的稳定性。如果温度过高或过低,都会影响光刻胶的质量,导致产品质量下降或报废。

光刻胶控温防爆模温机是一款专为光刻胶生产而设计的设备,具有以下优点:

整机隔离式防爆:由于光刻胶在反应过程中会产生一定的气体,如果不加以控制,可能会引起火灾或爆炸。我们的防爆模温机采用了整机隔离式防爆设计,符合EXdIIBT4 级别的标准,可以有效防止火花、静电或热源引发的危险。

PLC编程控制:光刻胶控温防爆模温机采用了先进的 PLC 编程控制系统,可以根据您的工艺要求,自动调节温度、压力、流量等参数。您可以通过触摸屏或远程控制器,方便地监测和使用设备。

带冷却功能:光刻胶控温防爆模温机具有强大的冷却功能,可以在反应釜控温光刻胶时,及时将多余的热量排出,保持反应温度在150度左右,可以提高冷却效率和节省空间。

光刻胶控温防爆模温机2

光刻胶控温防爆模温机

使用光刻胶控温防爆模温机,可以提高光刻胶的生产效率和质量,减少成本和风险。光刻胶控温防爆模温机已经成功应用于多家半导体材料行业的客户,获得了一致好评。

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